Effect of Oxygen Ions on Plasma Oxidation of Silicon
Autor: | Kazutaka G. Nakamura, Masahiro Kitajima, Takaya Kawabe, I. Kamioka, Shunichi Hishita |
---|---|
Rok vydání: | 1995 |
Předmět: | |
Zdroj: | Hyomen Kagaku. 16:504-509 |
ISSN: | 1881-4743 0388-5321 |
DOI: | 10.1380/jsssj.16.504 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |