Substrate temperature-controlled precursor reaction mechanism of PEALD-deposited MoOx thin films
Autor: | Chen Wang, Chun-Hui Bao, Wan-Yu Wu, Chia-Hsun Hsu, Ming-Jie Zhao, Xiao-Ying Zhang, Shui-Yang Lien, Wen-Zhang Zhu |
---|---|
Rok vydání: | 2022 |
Předmět: | |
Zdroj: | Journal of Materials Science. 57:12341-12355 |
ISSN: | 1573-4803 0022-2461 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: | |
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje | K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit. |