Progress in EUV Photoresists for High-Resolution Patterning

Autor:	Yusuke Otsubo, Kazunori Sakai, Kazuki Kasahara, Hong Xu, Emmanuel P. Giannelis, Christopher K. Ober
Rok vydání:	2022
Předmět:	Polymers and Plastics Organic Chemistry Materials Chemistry
Zdroj:	Journal of Photopolymer Science and Technology. 35:101-104
ISSN:	1349-6336 0914-9244
DOI:	10.2494/photopolymer.35.101
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::cd7de295640ee7d24fe75a4383f51500 https://doi.org/10.2494/photopolymer.35.101 Zobrazit plný text záznamu