ChemInform Abstract: Deposition of Thin Films of Zirconium and Hafnium Boride by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

Autor:	Klára Hankó, Harald Suhr, S. Reich, László Szepes
Rok vydání:	2010
Předmět:	chemistry.chemical_compound Zirconium chemistry Chemical engineering Plasma-enhanced chemical vapor deposition Boride chemistry.chemical_element General Medicine Thin film Deposition (chemistry) Hafnium
Zdroj:	ChemInform. 24
ISSN:	0931-7597
DOI:	10.1002/chin.199315303
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::ccf406045dec67635830ebb7b76d8172 https://doi.org/10.1002/chin.199315303 Zobrazit plný text záznamu Plný text