Plasma Immersion Ion Implantation at Elevated Temperatures

Autor:	W. Y. Yeung, R. Hutchings, M. J. Kenny, D. R. Miller
Rok vydání:	2018
Předmět:	Materials science Radiochemistry Plasma-immersion ion implantation
DOI:	10.1201/9780203737798-12
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::ccb295196f799d94790f1b1b16b80c43 https://doi.org/10.1201/9780203737798-12 Zobrazit plný text záznamu