Fabrication and characterisation of memristor device using sputtered hafnium oxide
Autor: | Antony Sharon, P. S. Subin, M. K. Jayaraj, Aldrin Antony |
---|---|
Rok vydání: | 2023 |
Předmět: | |
Zdroj: | Journal of Materials Science: Materials in Electronics. 34 |
ISSN: | 1573-482X 0957-4522 |
DOI: | 10.1007/s10854-023-10613-5 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |