ChemInform Abstract: ENHANCED DIFFUSION OF IMPLANTED ARSENIC AND BORON IN SILICON BY LOW-TEMPERATURE HEAT-TREATMENT

Autor:	Y. Tamminga, G. J. van Gurp, J. W. Slotboom, W. T. Stacy, F. J. B. Smolders
Rok vydání:	1980
Předmět:	Silicon chemistry Diffusion Inorganic chemistry chemistry.chemical_element General Medicine Boron Arsenic
Zdroj:	Chemischer Informationsdienst. 11
ISSN:	0009-2975
DOI:	10.1002/chin.198051009
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::c8c95fa8d628914a4331265fe9e075cd https://doi.org/10.1002/chin.198051009 Zobrazit plný text záznamu Plný text