Multibeam mask requirements for advanced EUV patterning
Autor: | Mahesh Chandramouli, Bin Liu, Zachary Alberti, Frank E. Abboud, Gottfried Hochleitner, Witold Wroczewski, Stefan Kuhn, Christof Klein, Elmar Platzgummer |
---|---|
Rok vydání: | 2022 |
Zdroj: | Photomask Technology 2022. |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |