Nanoscale analysis of electron irradiation-enhanced diffusion process on the multilayer interfaces of W-Al2O3-Ti/Cu

Autor:	Shigemasa Ohta, Heishichiro Takahashi
Rok vydání:	1999
Předmět:	Materials science Diffusion process Sputtering Analytical chemistry Electron beam processing Nanotechnology Instrumentation Nanoscopic scale
Zdroj:	Journal of Electron Microscopy. 48:899-903
ISSN:	1477-9986 0022-0744
DOI:	10.1093/oxfordjournals.jmicro.a023763
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::be310e3ad6f2f6383bef7b0810984f58 https://doi.org/10.1093/oxfordjournals.jmicro.a023763 Zobrazit plný text záznamu