Thermal Atomic Layer Etching of CoO, ZnO, Fe2O3, and NiO by Chlorination and Ligand Addition Using SO2Cl2 and Tetramethylethylenediamine
| Autor: | Jonathan L. Partridge, Jessica A. Murdzek, Virginia L. Johnson, Andrew S. Cavanagh, Andreas Fischer, Thorsten Lill, Sandeep Sharma, Steven M. George |
|---|---|
| Rok vydání: | 2023 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | Chemistry of Materials. 35:2058-2068 |
| ISSN: | 1520-5002 0897-4756 |
| DOI: | 10.1021/acs.chemmater.2c03616 |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|