Plasma photoresist stripping in a planar reactor

Autor:	A. Szekeres, K. I. Kirov, S. Alexandrova
Rok vydání:	1981
Předmět:	business.product_category Stripping (chemistry) Chemistry Analytical chemistry Plasma Photoresist Condensed Matter Physics Electronic Optical and Magnetic Materials O2 plasma Planar Die (manufacturing) business Layer (electronics) Power density
Zdroj:	Physica Status Solidi (a). 63:371-374
ISSN:	1521-396X 0031-8965
DOI:	10.1002/pssa.2210630148
Popis:	Stripping of different types of photoresist in O2 plasma in a planar reactor is investigated. Data are presented on the dependence of the stripping rate on the O2 pressure, temperature, and power density. Also, contamination by residues from the photoresist layer is discussed. Es wird die Abtragung von verschiedenen Photoresisttypen im O2-Plasma in einem Planar-Reaktor untersucht. Angaben uber die Abhangigkeit der Strippingrate vom O2-Druck, von der Temperatur und von der Leistungsdichte werden dargestellt. Die Verunreinigung durch Reste der Photoresistschicht wird diskutiert.
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b9df8d6f87e1bf54f0e84107a8f0ee0c https://doi.org/10.1002/pssa.2210630148 Zobrazit plný text záznamu Plný text