Development of SSQ Based 157nm Photoresist

Autor:	Raymond J. Hung, Takashi Chiba, Haruo Iwasawa, Akihiro Hayashi, Noboru Yamahara, Tsutomu Shimokawa
Rok vydání:	2003
Předmět:	Polymers and Plastics Organic Chemistry Materials Chemistry
Zdroj:	Journal of Photopolymer Science and Technology. 16:591-594
ISSN:	1349-6336 0914-9244
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b3ed6666b0514e3e0c7ae77476a85187 https://doi.org/10.2494/photopolymer.16.591 Zobrazit plný text záznamu