HIGH-TEMPERATURE ANNEALING OF SILICON SUBOXIDE THIN FILMS OBTAINED BY GAS-JET ELECTRON BEAM PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
| Autor: | E. A. Baranov, A. O. Zamchiy, N. A. Lunev, I. E. Merkulova, V. A. Volodin, M. R. Sharafutdinov, A. A. Shapovalova |
|---|---|
| Rok vydání: | 2022 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | Journal of Applied Mechanics and Technical Physics. 63:757-764 |
| ISSN: | 1573-8620 0021-8944 |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|