Electrically Detected Magnetic Resonance Study of High-Field Stressing in SiOC:H Films

Autor:	F. V. Sharov, S. J. Moxim, M. J. Elko, S. W. King, P. M. Lenahan
Rok vydání:	2022
Zdroj:	2022 IEEE International Integrated Reliability Workshop (IIRW).
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::abb1332a6ec39529892f5e2aa0f85b7e https://doi.org/10.1109/iirw56459.2022.10032735 Zobrazit plný text záznamu