Autor:	Filip Schleicher, Joost Bekaert, Arame Thiam, Stefan Decoster, Romuald Blanc, Frédéric Lazzarino, Jara Garcia-Santaclara, Gijsbert Rispens, Mark Maslow
Rok vydání:	2022
Zdroj:	Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XI.
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::a7da1ddd90e82ad8b75c160020aba246 https://doi.org/10.1117/12.2610941 Zobrazit plný text záznamu