Delamination Analysis of Low-Temperature Processed SU-8 Photoresist for MEMS Device Fabrication

Autor:	Gwang Beom Kim, Chong Dae Park, Dong Sun Seo, Sang Jeen Hong
Rok vydání:	2007
DOI:	10.4028/0-87849-440-5.1397
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::a5c0b13b4e032900705b8a90284702b6 https://doi.org/10.4028/0-87849-440-5.1397 Zobrazit plný text záznamu