Plasma-Assisted Etching Techniques for Pattern Delineation

Autor:	C.J. Mogab, C.M. Melliar-Smith
Rok vydání:	1978
Předmět:	Materials science Etching (microfabrication) business.industry Optoelectronics Plasma business
DOI:	10.1016/b978-0-12-728250-3.50016-7
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::a3055ba5db232f7ff0b3c98626da0ff0 https://doi.org/10.1016/b978-0-12-728250-3.50016-7 Zobrazit plný text záznamu