Influence of the Deposition Temperature on the Structure of Thin Molybdenum Disulfide Films Formed by Chemical Vapor Deposition

Autor: S. E. Aleksandrov, Vladimir V. Fedorov, O. Yu. Koval, Y. Khattab
Rok vydání: 2021
Předmět:
Zdroj: Russian Journal of Applied Chemistry. 94:1044-1051
ISSN: 1608-3296
1070-4272
DOI: 10.1134/s1070427221080048
Databáze: OpenAIRE