Kolloidchemische und grenzflächenphysikalische Aspekte bei der Entwicklung von Kupfer-CMP-Slurries

Autor:	A. Nennemann, L. Krüger, L. Puppe, G. Passing, G. Hey, S. Kirchmeyer
Rok vydání:	2005
Předmět:	General Chemical Engineering General Chemistry Industrial and Manufacturing Engineering
Zdroj:	Chemie Ingenieur Technik. 77:137-142
ISSN:	0009-286X
DOI:	10.1002/cite.200407064
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::9fe59c7d88266db9f5954edd00de19f5 https://doi.org/10.1002/cite.200407064 Zobrazit plný text záznamu Plný text