Exploring a Patent's Essentiality to the HEVC Standard: A Retrospective View

Autor: Rico Lee-Ting Cho, Mei Hsiu-Ching Ho, John S. Liu
Rok vydání: 2022
Předmět:
Zdroj: IEEE Transactions on Engineering Management. :1-13
ISSN: 1558-0040
0018-9391
DOI: 10.1109/tem.2021.3111963
Databáze: OpenAIRE