Laser annealing with a 308-nm Xe-CI pulsed escimer laser

Autor:	R. T. Hodgson, T. J. McKee, W. K. Chou
Rok vydání:	1981
Předmět:	Laser annealing Materials science law business.industry Optoelectronics Laser business law.invention
Zdroj:	Conference on Lasers and Electro-Optics.
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::9a454445159e652b9045051672752a5d https://doi.org/10.1364/cleo.1981.wj20 Zobrazit plný text záznamu