Crystallization study of Ta–Si thin films with time-resolved X-ray diffraction at high temperatures

Autor:	H.E. Göbel, F. Neppl, W. Russwurm, H. von Philipsborn
Rok vydání:	1984
Předmět:	Materials science Structural Biology law X-ray crystallography Analytical chemistry Crystallization Thin film law.invention
Zdroj:	Acta Crystallographica Section A Foundations of Crystallography. 40:C188-C188
ISSN:	0108-7673
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::96b9b4515077ef8d7de10348b62d9ab0 https://doi.org/10.1107/s0108767384094265 Zobrazit plný text záznamu Plný text