Verbundprojekt: EUV Lithographie für den 22nm Knoten (EXEPT), Teilvorhaben: EUV Photomasken Reinigungskonzepte (Module und Prozesse) : Schlussbericht zum Vorhaben ; Laufzeit: 01.05.2009 - 30.04.2012

Jazyk:	němčina
Rok vydání:	2012
Předmět:	Halbleitertechnologie Mechanical engineering power engineering Lithografie Oberflächentechnik Wärmebehandlung Electrical engineering Extremes Ultraviolett Mikrosystemtechnik Nanotechnologie Maske (Halbleitertechnologie)
DOI:	10.2314/gbv:741560674
Popis:	Ill., graph. Darst.
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::94da790065d0e886a078a8f1ce098379 Zobrazit plný text záznamu