Improved Silicon Surface Passivation by ALD Al 2 O 3 /SiO 2 Multilayers with In‐Situ Plasma Treatments
Autor: | Armin Richter, Hemangi Patel, Christian Reichel, Jan Benick, Stefan W. Glunz |
---|---|
Rok vydání: | 2023 |
Předmět: | |
Zdroj: | Advanced Materials Interfaces. |
ISSN: | 2196-7350 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |