Improved Silicon Surface Passivation by ALD Al 2 O 3 /SiO 2 Multilayers with In‐Situ Plasma Treatments

Autor: Armin Richter, Hemangi Patel, Christian Reichel, Jan Benick, Stefan W. Glunz
Rok vydání: 2023
Předmět:
Zdroj: Advanced Materials Interfaces.
ISSN: 2196-7350
Databáze: OpenAIRE