Tailored electrical characteristics in multilayer metal-oxide-based-memristive devices
| Autor: | Park, Seongae |
|---|---|
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2022 |
| Předmět: | |
| DOI: | 10.22032/dbt.55210 |
| Popis: | Auf Mehrlagen-Metalloxiden basierende memristive Bauelemente sind einer der vielversprechendsten Kandidaten für neuromorphes Computing. Allerdings stellen spezifische Anwendungen des neuromorphen Computings unterschiedliche Anforderungen an die memristiven Bauelemente. Eine ungelöste Herausforderung in der technologischen Entwicklung ist daher das maßgeschneiderte Design von memristiven Bauelementen für spezifische Anwendungen. Insbesondere die unterschiedlichen Materialien des Schichtstapels erschweren die Herstellungsprozesse aufgrund einer großen Anzahl von Parametern, wie z. B. der Stapelsequenzen und -dicken und der Qualität sowie der Eigenschaften der einzelnen Schichten. Daher sind systematische Untersuchungen der einzelnen Bauelementparameter besonders entscheidend. Darüber hinaus müssen sie mit einem tiefgreifenden Verständnis der zugrundeliegenden physikalischen Prozesse kombiniert werden, um die Lücke zwischen Materialdesign und elektrischen Eigenschaften der resultierenden memristiven Bauelemente zuschließen. Um memristive Bauelemente mit unterschiedlichen resistiven Schalteigenschaften zu erhalten, werden verschiedene Abfolgen und Kombinationen von drei Metalloxidschichten (TiOx, HfOx, und AlOx) hergestellt und untersucht. Zunächst werden einschichtige Oxidbauelemente untersucht, um Kandidaten für mehrschichtige Stapel zu identifizieren. Zweitens werden zweischichtige TiOx/HfOx Oxidbauelemente hergestellt. Anhand von systematischen Experimenten und statistischen Analysen wird gezeigt, dass die Stöchiometrie, die Dicke, und die Fläche des Bauelements die Betriebsspannungen, die Nichtlinearität beim resistiven Schalten und die Variabilität beeinflussen. Drittens werden TiOx/AlOx/HfOx-basierte Bauelemente hergestellt. Durch das Hinzufügen von AlOx in die zweischichtigen Oxidstapel weisen diese dreischichtigen Bauelemente optimale elektrische Eigenschaften für den Einsatz in neuromorpher Hardware auf, wie z. B. elektroformierungsfreies und strombegrenzungsloses Schalten sowie eine lange Lebensdauer. Die entwickelten memristiven Bauelemente werden in Systeme, wie Kreuzpunkt-Strukturen und Ein-Transistor-ein-Memristor-Konfigurationen integriert. Hier wird die Eignung für effizientes neuromorphes Computing bewertet. Außerdem werden Methoden zur stufenlosen analogen Einstellung des Widerstands der Bauelemente demonstriert. Diese Eigenschaft ermöglicht effiziente neuromorphe Rechenschemata. Diese umfassende Studie beleuchtet die Beziehung zwischen den Bauelementparametern und den elektrischen Eigenschaften von mehrschichtigen memristiven Bauelementen auf Metalloxidbasis. Auf dieser Grundlage werden maßgeschneiderte Methoden für spezifische neuromorphe Anwendungen entwickelt. Multilayer metal-oxide-based-memristive devices are one of the most promising candidates for neuromorphic computing. However, specific applications of neuromorphic computing call for different requirements for memristive devices. Therefore, an open challenge in technological development is the tailored design of memristive devices for specific applications. In particular, multilayer stacks complicate fabrication processes due to a large number of device parameters such as staking sequences and thicknesses, quality, and property of each layer. Therefore, systematic investigations of the individual device parameters are particularly decisive. Moreover, they need to be combined with a profound understanding of the underlying physical processes to bridge the gap between material design and electrical characteristics of the resulting memristive devices. To obtain memristive devices with different resistance switching characteristics, various sequences and combinations of three metal oxide layers (TiOx, HfOx, and AlOx) are fabricated and studied. First, single-layer oxide devices are investigated to find desirable multilayer stacks for memristive devices. Second, TiOx/HfOx-based bilayer oxide devices are fabricated. Via systematic experiments and statistical analysis, it is shown that the stoichiometry, thickness, and device area influence operating voltages, non-linearity in resistive switching, and variability. Third, TiOx/AlOx/HfOx-based devices are fabricated. By adding AlOx into the bilayer oxide stacks, these trilayer devices present favorable electrical features for use in neuromorphic hardware, such as electroforming-free and compliance-free switching as well as long retention. The developed memristive devices are integrated into systems such as crossbar structures and one-transistor-one-memristor configurations. Here, suitability for efficient neuromorphic computing is assessed. Also, methods to tune the device resistance gradually in an analog fashion are demonstrated. This feature allows for efficient neuromorphic computation. This comprehensive study highlights the relationship between device parameters and electrical properties of multilayer metal-oxide-based memristive devices. On this basis, tailoring methodologies are established for specific neuromorphic applications. |
| Databáze: | OpenAIRE |
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