Improved Margin of Absorber Pattern Sidewall Angle Using Phase Shifting Extreme Ultraviolet Mask
Autor: | Seongchul Hong, Jinho Ahn, Yong Ju Jang, Jung Sik Kim |
---|---|
Rok vydání: | 2016 |
Předmět: | |
Zdroj: | Nanoscience and Nanotechnology Letters. 8:544-548 |
ISSN: | 1941-4919 1941-4900 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |