Improved Margin of Absorber Pattern Sidewall Angle Using Phase Shifting Extreme Ultraviolet Mask

Autor:	Seongchul Hong, Jinho Ahn, Yong Ju Jang, Jung Sik Kim
Rok vydání:	2016
Předmět:	Materials science Optics business.industry Margin (machine learning) Extreme ultraviolet Optoelectronics General Materials Science business
Zdroj:	Nanoscience and Nanotechnology Letters. 8:544-548
ISSN:	1941-4919 1941-4900
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::8f658299ef8bb13f72abbfc2a218ffda https://doi.org/10.1166/nnl.2016.2227 Zobrazit plný text záznamu