Study on Approaches for Improvement of EUV-resist Sensitivity
Autor: | Takayuki Itou, Shinji Tarutani, Hidenori Takahashi, Hiroshi Tamaoki, Hideaki Tsubaki |
---|---|
Rok vydání: | 2010 |
Předmět: | |
Zdroj: | Journal of Photopolymer Science and Technology. 23:693-698 |
ISSN: | 1349-6336 0914-9244 |
DOI: | 10.2494/photopolymer.23.693 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |