'Resist / Wet Etch' Couple for Dual Gate Oxide
Autor: | A. Beverina, V. Huard, N. Emonet, R. Velard, J.-P. Carrere, Sébastien Petitdidier, I. Guilmeau, F. Guyader |
---|---|
Rok vydání: | 2003 |
Předmět: | |
Zdroj: | Solid State Phenomena. 92:235-238 |
ISSN: | 1662-9779 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |