Improving HfO2-Based Resistive Switching Devices by Inserting a TaOx Thin Film via Engineered In Situ Oxidation

Autor: Tao Wang, Stefano Brivio, Elena Cianci, Claudia Wiemer, Michele Perego, Sabina Spiga, Mario Lanza
Rok vydání: 2022
Předmět:
Zdroj: ACS Applied Materials & Interfaces. 14:24565-24574
ISSN: 1944-8252
1944-8244
Databáze: OpenAIRE