Attachment of CeO2 and SiO2 for Chemical Mechanical Polishing: Theory and Experiments

Autor:	Rafie Borujeny, Elham
Rok vydání:	2014
DOI:	10.7939/r3sb3x66b
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::89e96dd8d1d2ccca7227371fc4febc68 Zobrazit plný text záznamu