Study on Curing Characteristic of UV Nanoimprint Resist
Autor: | Atsushi Sekiguchi, Takeshi Ohsaki, Nobuji Sakai, Hiroyuki Kawata, Yoshihiko Hirai, Ryusuke Suzuki |
---|---|
Rok vydání: | 2012 |
Předmět: | |
Zdroj: | Journal of Photopolymer Science and Technology. 25:211-216 |
ISSN: | 1349-6336 0914-9244 |
DOI: | 10.2494/photopolymer.25.211 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |