Evaporation Dynamics of Boron Dopants in Silicon

Autor:	Christoph Freysoldt, Ramya Cuduvally, Jonathan Op de Beeck, Wilfried Vandervorst, Richard J. H. Morris, Claudia Fleischmann, Jeroen E. Scheerder, Paul van der Heide
Rok vydání:	2021
Předmět:	Materials science Silicon chemistry Chemical engineering Dopant Evaporation chemistry.chemical_element Boron Instrumentation
Zdroj:	Microscopy and Microanalysis. 27:418-420
ISSN:	1435-8115 1431-9276
DOI:	10.1017/s1431927621002014
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::7efca70db8b3f3eb1a277ad82f8d418e https://doi.org/10.1017/s1431927621002014 Zobrazit plný text záznamu