Atomic Layer Deposition of AlN Using Tris(diethylamido)aluminum and Ammonia or Hydrazine

Autor:	Sh.M. Ramazanov, E.K. Murliev, D.K. Palchaev, M.Kh. Rabadanov, A.I. Abdulagatov
Rok vydání:	2015
DOI:	10.13140/rg.2.1.4230.0242
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::7b506ba4794aa7e638acbb2083ce318e Zobrazit plný text záznamu