Autor:	Hiroshi Shiraishi, Toshio Sakamizu, Tadashi Arai
Rok vydání:	2000
Předmět:	Nanolithography Materials science Polymers and Plastics Resist Organic Chemistry Materials Chemistry Cathode ray Nanotechnology Photochemistry Electron-beam lithography
Zdroj:	Journal of Photopolymer Science and Technology. 13:405-412
ISSN:	1349-6336 0914-9244
DOI:	10.2494/photopolymer.13.405
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::7a113a303157b68c05f5f51ba85bfc01 https://doi.org/10.2494/photopolymer.13.405 Zobrazit plný text záznamu