Lithographie für den 45nm- und 32nm-Knoten : 193nm Lithographie zur Erzeugung von 32nm Strukturen ; Schlussbericht ; Laufzeit des Vorhabens: 01.07.2006 - 30.06.2008
| Autor: | Carl Zeiss SMT AG |
|---|---|
| Jazyk: | němčina |
| Rok vydání: | 2008 |
| Předmět: | |
| DOI: | 10.2314/gbv:591074931 |
| Popis: | Ill., graph. Darst. |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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