Control of silicon dioxide etching rate in hydrogen microwave plasma by addition of oxygen
Autor: | V.Yu. Yurov, A.P. Bolshakov, I.A. Fedorova, A.F. Popovich, K.N. Zyablyuk, A.S. Altakhov, D.N. Sovyk, P.A. Pivovarov, P.V. Volkov, V.G. Ralchenko |
---|---|
Rok vydání: | 2023 |
Předmět: | |
Zdroj: | Applied Surface Science. 612:155834 |
ISSN: | 0169-4332 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |