A review on copper chemical vapour deposition

Autor:	Santosh Walke, Manoj B. Mandake, Makarand Naniwadekar, Ravi W. Tapre, Tanmay Ghosh, Yaser Qureshi
Rok vydání:	2023
Zdroj:	Materials Today: Proceedings.
ISSN:	2214-7853
DOI:	10.1016/j.matpr.2022.12.140
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::77ee5b3d9f970235bca624be08bfb0d1 https://doi.org/10.1016/j.matpr.2022.12.140 Zobrazit plný text záznamu Full Text from ScienceDirect