P‐3: High Temperature Annealing Behavior of IGZO Using Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition

Autor:	Yoon-Seo Kim, Hyun-Jun Jeong, Seok-Goo Jeong, Jin-Seong Park
Rok vydání:	2022
Předmět:	Organic Chemistry Biochemistry
Zdroj:	SID Symposium Digest of Technical Papers. 53:1047-1050
ISSN:	2168-0159 0097-966X
DOI:	10.1002/sdtp.15678
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::7798d9eb644ef901b1d6381c9c32711f https://doi.org/10.1002/sdtp.15678 Zobrazit plný text záznamu Plný text