Characteristics of Aluminum Silicate Films Grown by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition
Autor: | Sun Jin Yun, Jung Wook Lim, Jin Ho Lee |
---|---|
Rok vydání: | 2005 |
Předmět: | |
Zdroj: | Electrochemical and Solid-State Letters. 8:F25 |
ISSN: | 1099-0062 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |