Design and Synthesis of New Alicyclic Acrylate Polymer with Androstane Moiety for 193nm Resist
Autor: | Morio Yagihara, Kenichiro Sato, Hajime Nakao, Kunihiko Kodama, Yasumasa Kawabe, Toshiaki Aoai |
---|---|
Rok vydání: | 1999 |
Předmět: | |
Zdroj: | Journal of Photopolymer Science and Technology. 12:477-486 |
ISSN: | 1349-6336 0914-9244 |
DOI: | 10.2494/photopolymer.12.477 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |