Investigation of Optimal Architecture of MoS2 Channel Field-Effect Transistors on a Sub-2 nm Process Node

Autor: Jihun Park, Hanggyo Jung, Wookyung Kwon, Gunhee Choi, Jeesoo Chang, Jongwook Jeon
Rok vydání: 2023
Předmět:
Zdroj: ACS Applied Electronic Materials. 5:2239-2248
ISSN: 2637-6113
Databáze: OpenAIRE