Investigation of Optimal Architecture of MoS2 Channel Field-Effect Transistors on a Sub-2 nm Process Node
Autor: | Jihun Park, Hanggyo Jung, Wookyung Kwon, Gunhee Choi, Jeesoo Chang, Jongwook Jeon |
---|---|
Rok vydání: | 2023 |
Předmět: | |
Zdroj: | ACS Applied Electronic Materials. 5:2239-2248 |
ISSN: | 2637-6113 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |