Acid Components in Outgassing from F2 Resists: A Study Using In-Situ QCM Technique
Autor: | Shigeo Irie, Toshio Itani, Yusuke Horiguchi, Shinichi Takashiba, Masamitsu Shirai |
---|---|
Rok vydání: | 2004 |
Předmět: | |
Zdroj: | Journal of Photopolymer Science and Technology. 17:645-650 |
ISSN: | 1349-6336 0914-9244 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |