Rta-simulations With the 2-d Process Simulator Promis

Autor:	K. Wimmer, Siegfried Selberherr, G. Hobler, H. Pötzl, S. Halania
Rok vydání:	2005
Předmět:	Materials science Rapid thermal annealing Simulation
Zdroj:	Workshop on Numerical Modeling of Processes and Devices for Integrated Circuits.
DOI:	10.1109/nupad.1990.748253
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::6b8519c971c6084580dd1f091ed6d9c2 https://doi.org/10.1109/nupad.1990.748253 Zobrazit plný text záznamu