Fatigue Analysis of Micro Resist Pattern Analyzed by the Direct Collapse Method with Atomic Force Microscope

Autor:	Akira Kawai, Norio Moriike
Rok vydání:	2000
Předmět:	Materials science Resist Atomic force microscopy Collapse (topology) Nanotechnology
Zdroj:	Journal of The Adhesion Society of Japan. 36:404-407
ISSN:	2187-4816 0916-4812
DOI:	10.11618/adhesion.36.404
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::6a313a9e90fc518d6fc378927acd0522 https://doi.org/10.11618/adhesion.36.404 Zobrazit plný text záznamu