| Autor: |
S. Schiller, M. Von Ardenne, O. Thieme |
| Rok vydání: |
1965 |
| Předmět: |
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| Zdroj: |
IFAC Proceedings Volumes. 2:523-530 |
| ISSN: |
1474-6670 |
| DOI: |
10.1016/s1474-6670(17)68991-2 |
| Popis: |
Die Beziehungen zwischen den elektrischen Eigenschaften und den Aufdampfbedingungen fur die Herstellung von NiCr-Widerstanden werden diskutiert. Es wurde gefunden, das die Forderungen fur eine reproduzierbare Herstellung von Widerstanden am zweckmasigsten erfullt werden mittels einer Anlage mit linearem Durchlauf durch die Vakuumzone und das eine solche Anlage physikalische und technologische Vorteile bietet. Die Konstruktion und die Wirkungsweise einer Elektronenstrahl-Aufdampfanlage mit kontinuierlichem Transport durch die Prozeskammern werden beschrieben. Die Anlage arbeitet automatisch und ist in der Lage, in der Stunde 1200 Substrate zu bedampfen. Uber erste Ergebnisse beim Betrieb der Anlage wird berichtet. The correlation between the electrical properties and the deposition conditions for making NiCr resistors is discussed. It is found that the demands for a reproducible production of resistors can be fulfilled by means of a plant with linear through-put giving physical and technological advantage. The construction and the operation of an electron beam deposition plant with continuous linear through-put of the substrates through the process chambers is reported on. The plant has been automated to a great deal and has a nominal through-put of 1200 substrates per hour. First results on the operation of the plant are given. |
| Databáze: |
OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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