Energy and Transport Lengths for Describing Volume of Resist Modification in Ion-Beam Lithography

Autor:	Ya. L. Shabelnikova, S. I. Zaitsev
Rok vydání:	2022
Předmět:	Surfaces Coatings and Films
Zdroj:	Journal of Surface Investigation: X-ray, Synchrotron and Neutron Techniques. 16:605-610
ISSN:	1819-7094 1027-4510
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::696a681d43ec45f05765c0fda09b857a https://doi.org/10.1134/s1027451022040310 Zobrazit plný text záznamu Full text from SpringerLink