Rigorous simulation model of double-Ronchi shearing interferometry on lithographic tools

Autor:	Zhiyuan Niu, Sikun Li, Yang Liu
Rok vydání:	2023
Předmět:	Electrical and Electronic Engineering Engineering (miscellaneous) Atomic and Molecular Physics and Optics
Zdroj:	Applied Optics.
ISSN:	2155-3165 1559-128X
DOI:	10.1364/ao.489083
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::686f73bd81605280d84e1570e2db290e https://doi.org/10.1364/ao.489083 Zobrazit plný text záznamu