Autor:	Douglas J. Guerrero, Ramil-Marcelo L. Mercado, Hao Xu, James M. Blackwell
Rok vydání:	2009
Předmět:	Materials science Polymers and Plastics Resist business.industry Extreme ultraviolet lithography Organic Chemistry Materials Chemistry Photoacid generator Optoelectronics business
Zdroj:	Journal of Photopolymer Science and Technology. 22:117-122
ISSN:	1349-6336 0914-9244
DOI:	10.2494/photopolymer.22.117
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::679b144f00b7e3c2060d7a861ea05f7d https://doi.org/10.2494/photopolymer.22.117 Zobrazit plný text záznamu