Knihovna AV ČR, v. v. i.
Odhlásit
Přihlášení
Jazyk
English
Čeština
Instituce
Knihovna AV ČR
Souborný katalog AV ČR
Archeologický ústav Brno
Archeologický ústav Praha
Astronomický ústav
Biofyzikální ústav
Botanický ústav
Etnologický ústav
Filosofický ústav
Fyzikální ústav
Fyziologický ústav
Geofyzikální ústav
Geologický ústav
Historický ústav
Masarykův ústav
Matematický ústav
Orientální ústav
Psychologický ústav
Slovanský ústav
Sociologický ústav
Ústav analytické chemie
Ústav anorganické chemie
Ústav pro českou literaturu
Ústav dějin umění
Ústav fyziky atmosféry
Ústav fotoniky a elektroniky
Ústav fyzikální chemie J. H.
Ústav fyziky materiálů
Ústav geoniky
Ústav pro hydrodynamiku
Ústav chemických procesů
Ústav informatiky
Ústav pro jazyk český
Ústav jaderné fyziky
Ústav makromolekulární chemie
Ústav pro soudobé dějiny
Ústav přístrojové techniky
Ústav státu a práva
Ústav struktury a mechaniky hornin
Ústav teoretické a aplikované mechaniky
Ústav teorie informace a automatizace
Ústav výzkumu globální změny
×
Všechna pole
Název
Autor
Hledat
Pokročilé vyhledávání
Zahrnout EIZ
Domovská stránka
Crystal Orientation-Dependent...
Jednotky
Navrhnout nákup titulu
Crystal Orientation-Dependent Oxidation of Epitaxial TiN Films with Tunable Plasmonics
Autor:
Tian-Yu Sun
,
Ruyi Zhang
,
Yang Song
,
Hongtao Cao
,
Haigang Liu
,
Jiachang Bi
,
Liang-Feng Huang
,
Yanwei Cao
,
Lingyan Liang
,
Qian-Ying Ma
,
Junhua Gao
,
Shaoqin Peng
Rok vydání:
2021
Předmět:
Transition metal nitrides
Materials science
business.industry
Crystal orientation
chemistry.chemical_element
02 engineering and technology
021001 nanoscience & nanotechnology
Epitaxy
01 natural sciences
Titanium nitride
Atomic and Molecular Physics
and Optics
Electronic
Optical and Magnetic Materials
010309 optics
chemistry.chemical_compound
chemistry
0103 physical sciences
Optoelectronics
Electrical and Electronic Engineering
0210 nano-technology
Tin
business
Oxidation resistance
Refractory (planetary science)
Plasmon
Biotechnology
Zdroj:
ACS Photonics
. 8:847-856
ISSN:
2330-4022
Popis:
Titanium nitride (TiN) is a paradigm of refractory transition metal nitrides with great potential in vast applications. Generally, the plasmonic performance of TiN can be tuned by oxidation, which ...
Databáze:
OpenAIRE
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::66b1b29427bc2bf35bad45e0cdf60536
https://doi.org/10.1021/acsphotonics.0c01827
Zobrazit plný text záznamu
Jednotky
Popis
Exportovat záznam
Export to RIS
×
načítá se......