Optical diagnostics of high density plasma chemical vapor deposition processes in semiconductor wafer production

Autor:	Haselmann, Matthias
Rok vydání:	2013
DOI:	10.3217/1ypn0-aaf13
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::668d88a7ef7dc06a67658c2f456181c7 Zobrazit plný text záznamu